Каковы классификации машин для вакуумного ионного покрытия?- Ningbo Honyu Vacuum Technology Co., Ltd.

В вакуумная лакировальная машина широко используется в жизни, потому что он не загрязняет окружающую среду, имеет преимущества быстрой скорости осаждения, высокой скорости ионизации, большой энергии ионов, простой эксплуатации оборудования, низкой стоимости и т. д., поэтому его любят многие предприятия, а затем его вакуум Каков принцип ионного покрытия лакировочной машины? Позвольте представить вам подробно:

Пленки готовятся в вакууме, в том числе напылением кристаллического металла, полупроводника, изолятора и других элементарных или составных пленок. Хотя химическое осаждение из паровой фазы также использует вакуумные методы, такие как пониженное давление, низкое давление или плазма, вакуумное покрытие обычно относится к осаждению тонких пленок физическими методами. Существует три формы вакуумного покрытия: напыление, напыление и ионное покрытие.

Ионное напыление – это использование газового разряда или частичной ионизации испаряемых веществ в вакуумной камере, при этом одновременно с бомбардировкой ионами газа или частицами испаряемых веществ происходит осаждение испаряемых веществ или реагентов на подложку. Ионное напыление органично сочетает в себе явления тлеющего разряда, плазменные технологии и вакуумное испарение, что не только значительно улучшает качество пленок, но и расширяет область применения тонких пленок. Его преимуществами являются сильная адгезия пленки, хорошая дифракция и широкий спектр пленочных материалов. Существует много типов ионного покрытия, и методы лечения источников испарения включают резистивный нагрев, электронно-лучевой нагрев, плазменный электронно-лучевой нагрев, высокочастотный индукционный нагрев и т. д.

Однако многодуговое ионное покрытие сильно отличается от обычного ионного покрытия. Многодуговое ионное покрытие использует дуговой разряд вместо тлеющего разряда традиционного ионного покрытия для осаждения. Проще говоря, принцип многодугового ионного осаждения заключается в использовании катодной мишени в качестве источника испарения, а посредством дугового разряда между мишенью и корпусом анода материал мишени испаряется, тем самым образуя плазму в пространстве и осаждая подложка.